工艺能力

掌握镀膜技术：

• 电子束蒸发
• 磁控溅射
• LPCVD
• PECVD
• ALD

镀膜材料：

金属：Ti、Al、Ni、Au、Ag、Cr、Pt、Cu、TiW90、Pd、Zn、Mo、W、Ta 、Nb等
非金属：Si、SiO2、SiNx、Al2O3、HFO2、MgF2、ITO、Ta2O5等

镀膜基底：

我们的优势

掌握多种镀膜技术，镀膜材料广泛
镀膜厚度范围：5nm-2000nm
基底尺寸6英寸向下兼容
镀膜均匀性好，膜层致密。