含光研发了多个生物医疗微流控平台解决方案覆盖生化、免疫和分子诊断,并拥有产业链各个环节数十项专利,可以提供微流控产品的定制研发与生产(CDMO)服务。含光拥有医疗器械生产许可证具备给客户提供相应诊断试剂的委托加工服务的能力和资质。

MEMS加工

新闻推荐
您所在位置:首页 > MEMS加工

掩膜版

掩模版又称mask或光罩,分为铬版、干版、菲林、凸版等,含光建议试用精度高、耐用的铬版。应用干芯片制造的光掩膜为高敏感度的铬版,由表面纯平并带有一层厚约0.1um铬层的石英板或玻璃板制作而成,蚀刻后的残留铬部分即为设计的图形。
掩膜版
  • 询价

含光微纳提供全系列石英、苏打玻璃铬掩膜版,制版最小线宽1.5um,精度0.2um,适配4、6英寸光刻等多种尺寸,满足从高精尖科学研究到大规模企业量产的全方位需求。提供版图设计服务,根据客户提交的草图,为客户绘制符合芯片要求的版图。

掩膜版1.jpg