含光研发了多个生物医疗微流控平台解决方案覆盖生化、免疫和分子诊断,并拥有产业链各个环节数十项专利,可以提供微流控产品的定制研发与生产(CDMO)服务。含光拥有医疗器械生产许可证具备给客户提供相应诊断试剂的委托加工服务的能力和资质。

MEMS加工

新闻推荐
您所在位置:首页 > MEMS加工

光刻

光刻工艺是MEMS技术里用得最频繁,最关键的技术之一,光刻工艺将掩膜图形转移到衬底表面的光刻胶图形上,根据曝光方式可分为接触式、接近式和投影式。一般的光刻工艺要经历硅片表面清洗烘干、涂底、旋涂光刻胶、软烘、对准曝光、后烘、显影、硬烘、刻蚀、检测等工序。
光刻
  • 询价
EBL电子束光刻:最小线宽50nm,精度可达10%。
stepper步进式光刻:stepperi7/i10/i12,最小线宽350nm,曝光误差士o1um,最大曝光面积6英寸。
Mask aligner:MA6/BA6光刻机,最小线宽1um,曝光误差士0.5umo
可进行双面光刻,对准套刻
兼容6英寸、4英寸、2英寸、不规则小片

材料可为硅片、石英片、玻璃片等基底


稿定设计导出-20210928-102154.jpg